目前常用(yòng)的平面研磨抛光加工方法

    目前常用(yòng)的平面研磨抛光加工方法有以下幾種：
　　1.1機械抛光機械抛光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被抛光後的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用(yòng)油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作(zuò)為(wèi)主，特殊零件如回轉體(tǐ)表面，可(kě)使用(yòng)轉台等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可(kě)采用(yòng)超精(jīng)研抛的方法。超精(jīng)研抛是采用(yòng)特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，緊壓在工件被加工表面上，作(zuò)高速旋轉運動。利用(yòng)該技(jì )術可(kě)以達到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種抛光方法中高的。光學(xué)鏡片模具常采用(yòng)這種方法。

　　1.2化學(xué)抛光化學(xué)抛光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分(fēn)較凹部分(fēn)優先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優點是不需複雜設備，可(kě)以抛光形狀複雜的工件，可(kě)以同時抛光很(hěn)多(duō)工件，效率高。化學(xué)抛光的核心問題是抛光液的配制。化學(xué)抛光得到的表面粗糙度一般為(wèi)數10μm。

　　1.3電(diàn)解抛光電(diàn)解抛光基本原理(lǐ)與化學(xué)抛光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小(xiǎo)凸出部分(fēn)，使表面光滑。與化學(xué)抛光相比，可(kě)以消除陰極反應的影響，效果較好。

　　電(diàn)化學(xué)抛光過程分(fēn)為(wèi)兩步：

　　(1)宏觀整平溶解産物(wù)向電(diàn)解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。

　　(2)微光平整陽極極化，表面光亮度提高，Ra<1μm。

　　1.4超聲波抛光将工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中，依靠超聲波的振蕩作(zuò)用(yòng)，使磨料在工件表面磨削抛光。超聲波加工宏觀力小(xiǎo)，不會引起工件變形，但工裝(zhuāng)制作(zuò)和安(ān)裝(zhuāng)較困難。超聲波加工可(kě)以與化學(xué)或電(diàn)化學(xué)方法結合。在溶液腐蝕、電(diàn)解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液，使工件表面溶解産物(wù)脫離，表面附近的腐蝕或電(diàn)解質(zhì)均勻;超聲波在液體(tǐ)中的空化作(zuò)用(yòng)還能(néng)夠抑制腐蝕過程，利于表面光亮化。

　　1.5流體(tǐ)抛光流體(tǐ)抛光是依靠高速流動的液體(tǐ)及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到抛光的目的。常用(yòng)方法有：磨料噴射加工、液體(tǐ)噴射加工、流體(tǐ)動力研磨等。流體(tǐ)動力研磨是由氣動資料">液壓驅動，使攜帶磨粒的液體(tǐ)介質(zhì)高速往複流過工件表面。介質(zhì)主要采用(yòng)在較低壓力下流過性好的特殊化合物(wù)(聚合物(wù)狀物(wù)質(zhì))并摻上磨料制成，磨料可(kě)采用(yòng)碳化矽粉末。

　　1.6磁研磨抛光磁研磨抛光是利用(yòng)磁性磨料在磁場作(zuò)用(yòng)下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件容易控制，工作(zuò)條件好。采用(yòng)合适的磨料，表面粗糙度可(kě)以達到Ra0.1μm。

　　2機械抛光基本方法

　　在塑料模具加工中所說的抛光與其他(tā)行業中所要求的表面抛光有很(hěn)大的不同，嚴格來說，模具的抛光應該稱為(wèi)鏡面加工。它不僅對抛光本身有很(hěn)高的要求并且對表面平整度、光滑度以及幾何度也有很(hěn)高的标準。表面抛光一般隻要求獲得光亮的表面即可(kě)。鏡面加工的标準分(fēn)為(wèi)四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于電(diàn)解抛光、流體(tǐ)抛光等方法很(hěn)難控制零件的幾何度，而化學(xué)抛光、超聲波抛光、磁研磨抛光等方法的表面質(zhì)量又達不到要求，所以精(jīng)密模具的鏡面加工還是以機械抛光為(wèi)主。

　　2.1機械抛光基本程序要想獲得高質(zhì)量的抛光效果，重要的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等抛光工具和輔助品。而抛光程序的選擇取決于前期加工後的表面狀況，如機械加工、電(diàn)火花(huā)加工，磨加工等等